Железо и софт

Специалисты TSMC и NCTU совершили прорыв в синтезе нитрида бора


Нитрид бора (BN) является привлекательным материалом для полупроводниковой промышленности, поскольку из него можно формировать слои изолятора толщиной всего один атом. Однако пока нет пригодной для использования в серийном производстве технологии формирования таких пленок.

Специалисты TSMC и NCTU совершили прорыв в синтезе нитрида бора


СМОТРИ ТАКЖЕ

Добавить комментарий

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *